磁控溅射时,靶材所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?有化学键之类的结合吗?还是纯属分子间的结合,类似范得华力?或是其他?

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/11/13 04:27:18
磁控溅射时,靶材所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?有化学键之类的结合吗?还是纯属分子间的结合,类似范得华力?或是其他?
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磁控溅射时,靶材所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?有化学键之类的结合吗?还是纯属分子间的结合,类似范得华力?或是其他?
磁控溅射时,靶材所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?
有化学键之类的结合吗?还是纯属分子间的结合,类似范得华力?或是其他?

磁控溅射时,靶材所形成的薄膜与基板的结合是什么情况?有化学键之类的结合吗?还是纯属分子间的结合,类似范得华力?或是其他?

溅射方法制备的薄膜组织可依沉积条件不同而呈现四种不同的组织形态.除了衬底温度因素以外,溅射气压对薄膜结构也有着显著的影响.

形态越靠后,粘结力越强.结合力一般与粘结力有关,粘结力强多为范德华力的作用.

薄膜附着力指的是薄膜对衬底的附着能力的大小,即薄膜从其衬底上脱离所需要的外力和能量的大小就代表了薄膜与其衬底之间附着力的高低.附着是利用中间层来实现的,也就是我们经常说的“界面层”.如图所示,这种界面层可以分为五类,每一类代表着一种不同的附着机制.图中展示的五种界面层代表着理想的膜层格式,但是在实际生产中它们是不会发生的.通常,附着都是以上机制中的几种共同作用的结果.

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